薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）通常采用两个加工过程并行进行加工成成品，如图1所示。其基本工艺如下： 

● 通过前玻璃基板/彩色滤光基板工艺过程形成精确排列的彩色滤光层。
● 薄膜基板工艺形成薄膜晶体管液晶（TFT）阵列及显示器像素控制所用其它电子元件。每个像素一般对应三个薄膜晶体管液晶（TFT），每个像素控制一个共同构成一个像素的“色点”。薄膜形成工艺采用与半导体制造技术相类似的CVD、Etch及PVD等工艺技术。此类工艺步骤应反复数次，连续膜层方可形成一个功能元件（图2）。 

 

● 两块基板合二为一，中间注入液晶材料。
● 最后组装背光及驱动电子元件，制造出TFT-LCD 模块。
部分技术名词英文缩写
     AMLCD Active Matrix Liquid
     Crystal Display
　　a-Si  Amorphous Silicon
　　BM  Black Matrix
　　COG  Chip on Glass
　　COO  Cost of Ownership
　　CRT  cathode-ray Tube
　　CVD  Chemical Vapor Deposition
　　EL  Electroluminescence
　　EWS  Engineering Work Station
　　FED  Field Emission Display
　　FPD  Flat Panel Display
　　HDTV  High Definition Television
　　IPS  In-Plane Switching
　　ITO  Indium Tin Oxide
　　LCD  Liquid Crystal Display
　　LED  Light Emitting Diode
　　MTBF  Mean Time Between Failure
　　MTTR  Mean Time To Repair
　　NTSC  National Television
　　System Commiee
　　OCB  Optically Compensated Bend
　　PAL  Phase Alternation by Line
　　color telision
　　PALC  Plasma Addressed Liquid
　　Crystal
　　PDP  Plasma Display Panel
 　  p-Si Poly crystal Silicon
　　PECVD  Plasma Enhanced CVD
　　PVD  Physical Vapor Deposition
　　RF  Radio Frequency
　　RGB  Red, Green, Blue
　　RIE  Reactive Ion Etching
　　SOG  Spin on Glass
　　STN  Super Twisted Nematic
　　SVGA  Super Video Graphic Array
　　SXVA  Super Extended Graphic Array
　　TEOS  Tetraethylorthosilicate
　　TFT  Thin Film Transistor
　　UXGA  Ultra Extended Graphic Array
　　VA  Vertical Aligned
　　VGA  Video Graphic Array
  　XGA  Extended Graphic Array